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徠卡DM500顯微鏡常用的兩種襯度調(diào)節(jié)法介紹

更新時(shí)間:2017-02-16      瀏覽次數(shù):2761
 
  
  徠卡DM500顯微鏡背散射電子像有較強(qiáng)的成分襯度。但是與二次電子像類似,徠卡DM500顯微鏡成分襯度常與形貌襯度同時(shí)存在,所以要設(shè)法加以分離。為此徠卡要充分利用上述特性。令探頭有效面積對(duì)樣品上一點(diǎn)所張的角定義為探測(cè)器的立體角,探頭中心線與樣品表面間夾角定義為探測(cè)器的檢出角。對(duì)于大角度傾轉(zhuǎn)的樣品,用小立體角的探頭放在接近樣品表面的低檢出角處,則測(cè)得的信號(hào)很強(qiáng),而且徠卡DM500顯微鏡能靈敏反映樣品表面局部形貌的變化,形貌襯度強(qiáng)。如果探頭放在高檢出角處,由于背離了信號(hào)電子發(fā)射的峰區(qū),故顯微鏡形貌襯度就很弱。但研究表明大散射角的電子數(shù)目隨原子序數(shù)而顯著變化,顯微鏡所以高檢出角處得到的背散射電子象具有明顯的成分襯度。這樣就可針對(duì)不同要求,利用顯微鏡樣品的傾轉(zhuǎn)臺(tái)和高、低檢出角的探測(cè)器,分別獲得顯微鏡成分襯度像和形貌襯度像。
  
  在一定條件下背散射電子像也能顯示樣品的磁襯度,顯微鏡主要可反映鐵磁體樣品磁疇的自感強(qiáng)度。此外,當(dāng)分析晶體樣品時(shí),徠卡DM500顯微鏡背散射電子象也偶有可能顯示晶體襯度,如形成單晶樣品的電子通道圖樣,或多晶樣品的取向襯度像,這些對(duì)研究晶體的結(jié)晶學(xué)特性很有用處。
  
  所謂圖像的模擬量處理是在探測(cè)器到顯微鏡顯像管之間信號(hào)轉(zhuǎn)換過(guò)程中的模擬量處理。目的是改變圖像襯度以適應(yīng)人們的觀察和辨認(rèn)。常用的圖像模擬量處理方法有以下幾種。
  
  顯微鏡差值放大或壓直流技術(shù)一這是指在壓低信號(hào)中的直流成分而加大各象元處信號(hào)的差值。它適用于信號(hào)太小的圖像。
  
  徠卡DM500顯微鏡非線性放大(也稱灰度或廠控制)一這種處理目的是顯微鏡局部放大圖像中某電平范圍內(nèi)的信號(hào)差值。如果原始襯度給出的圖像信號(hào)電平覆蓋范圍很大,而人們感興趣的只是近黑電平(即強(qiáng)度zui低值)或白電平(強(qiáng)度zui高值)區(qū)的一部分信息細(xì)節(jié),便可用非線性放大單元來(lái)放大感興趣區(qū)的信號(hào)以顯示出其中更多細(xì)節(jié)。
  
  以上徠卡DM500顯微鏡是zui常用的二種襯度調(diào)節(jié)法。此外還有徠卡DM500顯微鏡襯度黑白翻轉(zhuǎn)、信號(hào)微分和Y調(diào)制等圖像處理方法可供人們選用。
  
  

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